光刻膠膜厚儀的原理主要基于光學(xué)干涉現(xiàn)象。當(dāng)光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光波垂直或傾斜照射到光刻膠表面時(shí)，部分光波會(huì)被反射，部分則會(huì)透射進(jìn)入光刻膠內(nèi)部。在光刻膠的上下表面之間，光波會(huì)發(fā)生多次反射和透射，形成干涉現(xiàn)象。這種干涉現(xiàn)象會(huì)導(dǎo)致反射光波的相位發(fā)生變化，相位差的大小取決于光刻膠的厚度和折射率。膜厚儀通過(guò)精確測(cè)量這些反射光波的相位差，并利用特定的算法進(jìn)行處理，就能夠準(zhǔn)確地計(jì)算出光刻膠的膜厚值。在實(shí)際應(yīng)用中，光刻膠膜厚儀通常會(huì)采用分光處理的方式，收集反射光經(jīng)過(guò)分光后的光強(qiáng)度數(shù)據(jù)，并與已知的模型或標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，從而得出光刻膠的膜厚值。此外，有些光刻膠膜厚儀還會(huì)利用傾斜照射的方法，測(cè)量表面反射光的角度分布，進(jìn)一步提高測(cè)量的精度和可靠性。光刻膠膜厚儀具有非接觸式測(cè)量的特點(diǎn)，因此在測(cè)量過(guò)程中不會(huì)破壞樣品。同時(shí)，由于其測(cè)量速度快、精度高，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、生物醫(yī)學(xué)原件、微電子以及液晶顯示器等領(lǐng)域，對(duì)于保證產(chǎn)品質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率具有重要意義。