X熒光光譜儀X 射線熒光分析儀的優(yōu)點： (1)采樣方式靈敏，如 ESI英飛思 SEA 系列配有較大檢測室 ，多數(shù)試樣可直接進(jìn)行檢測?？梢詼p少取樣帶來的損耗，對于已壓鑄好的機(jī)械零件可以做到無損檢測，而不毀壞樣品。 (2)測試速率高，可以在較少時間內(nèi)進(jìn)行大量樣品測試，分析結(jié)果可以通過計算機(jī)直接連網(wǎng)輸出。 (3)分析速度較快。 (4)對于純金屬可采用無標(biāo)樣分析，精度能達(dá)分析要求。 (5)不需要實驗室與操作人員，不引入其它對環(huán)境有害的物質(zhì)。 X 射線熒光分析儀的缺點： (1) 關(guān)于非金屬和界于金屬和非金屬之間的元素很難做到檢測。在用基本參數(shù)法測試時，如果測試樣品里含有 C、H、O 等元素，會出現(xiàn)誤差。 (2)不能作為仲裁分析方法，檢測結(jié)果不能作為根據(jù)，不能區(qū)分元素價態(tài)。 (3)對于鋼鐵等含有非金屬元素的合金，需要代表性樣品進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)曲線繪制，分析結(jié)果的是建立在標(biāo)樣化學(xué)分析的基礎(chǔ)上。 (4)標(biāo)準(zhǔn)曲線模型需求不時更新，在儀器發(fā)生變化或標(biāo)準(zhǔn)樣品發(fā)生變化時，標(biāo)準(zhǔn)曲線模型也要變化。

X熒光光譜儀X 射線是一種電磁波，波長比紫外線還要短，為 0.001‐ 10nm 左右。X 射線照射到 物質(zhì)上面以后，從物質(zhì)上主要可以觀測到以下三種 X 射線。熒光 X 射線、散射 X 射線、透過 X 射線，ESI英飛思NT 產(chǎn)品使用的是通過對一種熒光 X 射線的測定，從物質(zhì)中獲取元素信息（成分和膜厚）的熒光 X 射線法原理。物質(zhì)受到 X 射線的照射時，發(fā)生元素所固有的 X 射線（固有 X 射線或者特征 X 射線）。熒光 X 射線裝置就是通過對該 X 射線的檢測而獲取元素信息。

X熒光光譜儀 (2) 測量鍍層厚度,為求準(zhǔn)確好購買標(biāo)片建檔. 如果需要管控 PCB 中有害物質(zhì)，可以粉碎后混測，也可購買有面掃描功能的儀器，掃描后再確定哪個點可能有問題,后再準(zhǔn)確定量。